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Entegris为先辈制造环境下良率提拔提供团体解决方案

标签:为先,先辈,制造,环境,提拔,提供,团体,解决,解决方案  2016-3-23 10:10:52  预览次

  Entegris 是半导体与其他高科技产业的向导供给商,为这些产业在处理与制造中所用的关键材料,提供纯化、保护和运输所需的多种产品。Entegris拥有广泛的产品组合,涉及光刻、刻蚀、沉积、清洗、CMP、植入、工厂设施等多个领域,是整个IC晶圆制造工艺领域的市场向导者。 Entegris专业从事研究和掌握材料科学和工程,产品广泛应用于以市场需求为导向的高价值应用领域中。 Entegris在半导体及其他高科技行业所涉及的污染控制、关键材料处理与先辈制程材料方面处于偕行业领先位置。同时,Entegris也行使现有技术开拓对过程控制和纯度要求极高的相邻市场,诸如太阳能光伏及生命科学等领域。

本文引用地址:http://www.esouou.com/eepw.com7843/article/201603/288624.htm

  Entegris全球市场营销副总裁杨文革指出,Entegris现已成为半导体业界材料及配件最大的公司。在先辈纳米环境下,提供应半导体业界客户高品质材料及设备,帮忙客户提拔工艺良率并正常运作。英特格提供包括离子注入、刻蚀、污染控制、光刻、清洗等半导体工艺相干的产品。半导体业界公司对于半导体材料供给链的整合好像较少见到,而英特格在经过多年发展及并购相干公司的助益下,现已成为业界当中有能力从半导体材料的生产制造、运送、应用到硅片制造上进行全方位整合。

  2015年,Entegris的业务额为11亿美元,全球有3500名员工。Entegris投注相称多的金钱与心力进行产品研发。Entegris在亚洲地区也积极建立生产基地,俾使就近服务广大的亚洲客户,同样也是为因应客户赓续扩充的建厂计画。中国半导体产业如日方升,英特格也相称正视中国半导体产业及市场需求。

北京11选5  面对半导体工艺更趋复杂,制造工序经常多达几百道。因此,良率对客户十分紧张。而要让半导体的性能提拔,除了随着摩尔定律微缩晶片尺寸外,很多新架构、新材料的出现也帮助提拔半导体性能。例如现今很多半导体系体例造的向导供给商积极发展的FinFET,就将应用到很多新材料。

  Entegris全球市场营销副总裁杨文革指出, 随着芯片的关键节点降低,制造芯片的工艺步骤将会愈来愈多,10纳米节点将达到2400个工艺步骤,随之而来的是芯片对材料的依靠正在与日剧增,材料的好坏优劣将直接影响性能。Entegris从技术,人才和工艺各方面来知足客户的需求。在技术组合,全球基础设施的布局,以及杰出的运营为公司是在偕行业间的上风。他透露表现,工业界每每会推出部分技术的外包来降低成本,但是Entegris认为,许多工艺是特别很是关键的,同时自由技术可以支撑整个实现,所以盼望可以更多的通过公司自己的技术来实现。同时他指出,污染会发生在晶圆制造化学过程的多个环节,Entegris通过整合工艺流程,为客户降低风险,提拔体验。Entegris积极倡导产品安全性,这是随着工业发展的环境下不得不提的方面,之前的天津爆炸等,都是应为气体存储安全题目。保障产品的安全性是一个企业的责任。

  近期,对先辈纳米制程,Entegris亦推出适用于半导体系体例程的新型后化学机械研磨(post-CMP)清洁溶液。新型PlanarClean AG系列产品是专为10nm以下的制程所设计,现在加入Entegris领先业界的post-CMP清洁溶液之列。矽晶圆制造的CMP程序包含机械抛光步骤,过程中会使用化学研磨液配方,去除集成元件外观上的多余导电性或介电物质,以便达到平滑结果而可推叠其他积体电路层。 post-CMP清洁步骤能够去除奈米颗粒,将晶圆污染的可能性降到最低,同时维持各层既有物质的完备性。 PlanarClean AG调配溶液吻合这些需求,在铜、钴和钨等高阶制程中显现一步到位的优秀清洁结果,还能保护底层的薄膜和物质。专利配方有助于提拔可靠度和产量、达到零腐蚀及零污染的程度、增长等待时间,最后为客户进步效能。另外,PlanarClean AG能够削减清洁步骤所需的化学品用量,进而发挥持有成本的上风;亦吻合最新的晶圆厂化学品EHS安全要求。



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